精度逼近 中國曝光機羲之，卻難量產

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中國受美國出口管制影響，曝光良率不佳。機羲近

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• China Reportedly Develops Lithography Machine With Precision Rivalling ASML’s High-NA EUV,曝光 But Limited to Research Applications, Not Mass Production

（首圖來源 ：中國杭州人民政府）

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